PlasmaX-Lab全能型實驗等離子表面處理設備

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CD-1000-PLC等離子清洗機技術資料

PlasmaX-Lab全能型實驗等離子表面處理設備

PlasmaX-Lab全能型實驗等離子表面處理設備,是一款專為精密表面工程設計的高端工具。其鋁質構造的450 x 300 x 300mm反應艙配備可視窗口,提供40.5升的寬敞處理空間,支持大范圍的實驗需求。采用獨特的二級等離子設計和水冷電極,PlasmaX-Lab保證了處理過程中的極致均勻性和效率,滿足了高精度表面處理的嚴格要求。

該設備搭載高效的螺桿真空泵和精確的薄膜規真空計,能快速達到所需的處理環境,同時保證過程中的穩定性。其PLC控制系統通過觸摸屏操作,提供自動化處理流程、精確監控和參數調整能力,大大提高了操作便利性和處理的可重復性。PlasmaX-Lab還支持雙氣體輸入,配有先進的氣體流量控制器和液體輸入系統,確保了處理過程的靈活性和多樣性。

此外,PlasmaX-Lab強調安全性能,配備急停開關以應對緊急情況,確保使用過程中的安全。其380V AC, 50HZ, 40A的電源需求,配合0~300W可調的頻射發生器,使得該設備不僅適用于多種材料處理,同時也兼顧環保和能效。


設備參數

反應艙

材料:鋁

有效尺寸:450 x 300 x 300mm

容積:40.5升

艙門:裝有可視窗口

電極:二級等離子設計,保證單層均勻性和層間均勻性。同時包含水冷電極。

樣品盤:1套,尺寸:350 x 250mm

真空度測量

薄膜規真空計,保證真空度測量精度

真空泵

螺桿真空泵;24m3 /h

頻射發生器

0~300W可調,MHz發生器

控制系統

觸摸屏操作,PLC控制系統

PLC可實現下列功能:

自動控制反應過程;

根據處理材料設定不同的處理工藝流程;

測定真空度、抽真空時間、充氣流速、處理時間、溫度、頻射發生器輸入功率等指標;

監測所有的運行指標,保證在設定范圍之內;

設定操作、維護密碼。

電源

380V AC, 50HZ, 40A

反應氣體

2個氣體輸入端口,含氣體流量控制器(MFC)。

氣體輸入

直徑1/4’’ 管道;輸入壓力:1Bar.

液體輸入

包含液態單體氣化裝置,可以設定液態單體流量,氣化溫度

尾氣排放

包含尾氣輸出端口

安全性能

急停開關